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抗日战争胜利的时间是哪一年,抗日战争胜利的时间是哪一年到哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息(xī),国家知识产(chǎn)权局局长(zhǎng)申长雨在(zài)新闻发布会上表示(shì),将统筹推进各(gè)类知识(shí)产(chǎn)权法律法规和制(zhì)度规则的制修订工(gōng)作。其中,修(xiū)改完善(shàn)集成电路布(bù)图设计保护条例,适应大规(guī)模集成电路发(fā)展需(xū)要,助力芯片产(chǎn)业做大(抗日战争胜利的时间是哪一年,抗日战争胜利的时间是哪一年到哪一年dà)做强(qiáng),服务数字经(jīng)济(jì)更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新(xīn)业态知识产权规则(zé)研究(jiū),助力相关领域创新发展。同时,积极参(cān)与(yǔ)知识产权(quán)国际(jì)规则(zé)制(zhì)定,更好对接高标(biāo)准国际(jì)经贸规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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