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　　美(měi)光公司在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据(jù)网信办消(xiāo)息，日前(qián)，网络安全审查办公室依法对美光公司在华销(xiāo)售(shòu)产品进行(xíng)了(le)网络安全审查(chá)。

　　审查发现，美光公司产品存在较(jiào)严重网络安全问题隐患，对我国关(guān)键信息基础设施供应链造(zào)成重大安全风险，影响(xiǎng)我国国(guó)家安全。为此，网络安全(quán)审查办公室依(yī)法作出不予通过网络(luò)安全(quán)审查的(de)结论。按(àn)照《网络(luò)安全(quán)法》等法律法规，我国内关键信息(xī)基(jī)础设施的(de)运营(yíng)者应(yīng)停止采购美光公司产品。

　　此次对美(měi)光公司(sī)产品进行(xíng)网(wǎng)络安(ān)全审查，目的(de)是防范产品(pǐn)网络安全问题危害国家(jiā)关键信(xìn)息基础(chǔ)设施安(ān)全，是维(wéi)护国(guó)家安全的必要措施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守(shǒu)中国法律(lǜ)法规(guī)要求(qiú)，欢(huān)迎各国(guó)企业、各类平(píng)台产(chǎn)品(pǐn)服务进入中国(guó)市场。

　　3月31日，中国网信网发文(wén)称(chēng)，为保障关键信(xìn)息基础(chǔ)设施供应链(liàn)安全，防范产品问题隐患造成网络(luò)安全(quán)风(fēng)险(xiǎn)，维护国家(jiā)安全(quán)，依据(jù)《中华(huá)人民共和国(guó)国(guó)家安全法》《中(zhōng)华人民共(gòng)和国网络安(ān)全法》，网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查(chá)办公室按(àn)照《网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售(shòu)的产品实施网(wǎng)络安(ān)全(quán)审(shěn)查。

　　美光是(shì)美(měi)国(guó)的(de)存储芯片行业龙头，也是全球存储芯片巨(88是不是质数，79是质数吗jù)头之一，2022年收入来自(zì)中国市场收入从此(cǐ)前高峰(fēng)57％降(jiàng)至(zhì)2022年(nián)约11％。根据市(shì)场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为(wèi) 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存(cún)）市场份额(é)约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公司(sī)中，江波龙、佰(bǎi)维存储等公司披露(lù)过(guò)美光等(děng)国际(jì)存(cún)储厂商为公(gōng)司供应商。

　　美(měi)光在江波(bō)龙采购占比已经(jīng)显著下降(jiàng)，至少已(yǐ)经不是主要大供(gōng)应(yīng)商。

　　公(gōng)告显(xiǎn)示， 2021年(nián)美光(guāng)位列江波(bō)龙第一大存储晶圆供应商，采(cǎi)购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波(bō)龙第(dì)一大、第二(èr)大和第(dì)三大供应商采购金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业链(liàn)上(shàng)下(xià)游建立国内外(wài)广泛(fàn)合作。2022年年报显(xiǎn)示，江(jiāng)波龙(lóng)与三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长期合(hé)约，确保存储(chǔ)晶圆供应的稳定(dìng)性，巩固公司在下游市场的供应优势，公(gōng)司也与(yǔ)国内国产存储晶(jīng)圆原(yuán)厂(chǎng)武汉长江存(cún)储、合(hé)肥长鑫保持良好的合作。

　　有(yǒu)券商此前就分析(xī)，如果美光在中国区(qū)销(xiāo)售受到(dào)限制，或将(jiāng)导致下游客户转而采购国外(wài)三星、 SK海力士(shì)，国(guó)内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等竞对产品

　　分析称，长存、长鑫(xīn)的(de)上游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受益。存(cún)储器(qì)的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现(xiàn)在已88是不是质数，79是质数吗经进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结构(gòu)转变使(shǐ)刻蚀和(hé)薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需要经过薄(báo)膜沉积工艺步(bù)骤，同时刻蚀目(mù)前前沿(yán)要刻(kè)到 60：1的深孔，未来可能会更深的孔或者沟(gōu)槽，催(cuī)生更多设备需求(qiú)。据(jù)东京电子披露，薄(báo)膜沉积设备及刻(kè)蚀(shí)占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为(wèi)75％。自(zì)长江存储被加入(rù)美国限制名单，设备国产化(huà)进(jìn)程加速，看好拓荆科技（薄膜(mó)沉积(jī)）等相(xiāng)关(guān)公司份额提升(shēng)，以及(jí)存储(chǔ)业务占比较高的华海清科（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗(xǐ)）等(děng)收入(rù)增(zēng)长。

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